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專利申請也要避坑

2020-04-08

隨著近幾年國家對知識產(chǎn)權(quán)的重視，國內(nèi)企業(yè)對專利在提升核心競爭力方面的作用有了進一步的認識，紛紛加強了專利申請，專利申請量大幅度增加，但是在專利代理過程中，仍存在誤區(qū)，需要早日改進。

【誤區(qū)一】誤認為自研的成果即便不申請專利也有知識產(chǎn)權(quán)
一些技術(shù)人員認為只要是自主創(chuàng)新，就有了自主知識產(chǎn)權(quán)。其實不然，專利是一種壟斷權(quán)，自主研發(fā)的技術(shù)成果如果不申請專利，就得不到法律確認和保護。

當遇到他人盜用其研究成果時，因研發(fā)者對成果不具有專利權(quán)，得不到法律保護，就無法追究盜用者的法律責任。同時，在我國，專利申請采用的是先申請原則，具有創(chuàng)造性、新穎性和實用性的發(fā)明創(chuàng)造誰先申請了，專利就授予誰。

【誤區(qū)二】誤認為專利產(chǎn)品的改進不需再申請專利

有些發(fā)明人認為申請了一項專利后，就可“高枕無憂”，從而忽視了后期的繼續(xù)研發(fā)，即使開發(fā)出了新產(chǎn)品或有了新改進，也不再申請專利。這種錯誤認識的后果不異于未申請專利。

當他人對該產(chǎn)品有了改進并申請了專利，反過來就限制了原專利權(quán)人產(chǎn)品的更新?lián)Q代，導致原專利權(quán)人不經(jīng)意間反而變成了侵權(quán)人。此時，原專利權(quán)人就喪失了自己的知識產(chǎn)權(quán)。

【誤區(qū)三】誤認為一項技術(shù)成果只能申請一類專利

有些發(fā)明人認為一項技術(shù)成果一次只能申請一類專利，即只能申請發(fā)明專利或?qū)嵱眯滦蛯＠蛲庥^設計專利。

我國專利法規(guī)定的專利類型有三類：發(fā)明專利、實用新型專利及外觀設計專利。一項產(chǎn)品發(fā)明可同時申請多種專利，技術(shù)方案也可以同時申請實用新型和發(fā)明專利。

【誤區(qū)四】誤認為只有產(chǎn)品投入大規(guī)模生產(chǎn)后才適合申請專利

在與發(fā)明人就申請專利的技術(shù)內(nèi)容進行交流時，他們中有很多人都有這樣的想法：這一技術(shù)方案還未投入生產(chǎn)，也沒有產(chǎn)品問世，此時申請專利是為時過早，等產(chǎn)品大規(guī)模投入生產(chǎn)后再申請專利更合適。

殊不知，這時已經(jīng)晚了，即使僥幸獲得授權(quán)，專利也處在不穩(wěn)定狀態(tài)之中。此時如果發(fā)現(xiàn)有人侵權(quán)并提起訴訟，侵權(quán)人則會以專利申請之日技術(shù)已經(jīng)被公開為由進行抗辯。

你不但打不嬴官司，而且以前為申請專利所花費的精力、時間、金錢統(tǒng)統(tǒng)付之東流。專利申請的基礎(chǔ)不是已經(jīng)在市場上存在的產(chǎn)品，也不一定是已經(jīng)成型的產(chǎn)品。只要有了切實可行的想法，就可以著手申請文件的撰寫了。

【誤區(qū)五】對專利缺乏有效的管理

有些企業(yè)申請了很多專利，但無專人管理。專利文件之間有的互相沖突，有的已無市場價值還在交納年費。有的專利權(quán)已經(jīng)遭受侵犯，但企業(yè)管理者對專利特征不了解，不能及時提起訴訟，還有的則是專利文書撰寫的申請質(zhì)量差，不能起到應該有的保護作用。

【誤區(qū)六】缺乏長遠的專利戰(zhàn)略規(guī)劃

有計劃地實施專利戰(zhàn)略對企業(yè)來說非常重要。首先，可以避免時間和精力的浪費。一些企業(yè)毫無目的的申請大量專利，結(jié)果導致授權(quán)率低，并產(chǎn)生大量的垃圾專利，浪費時間和精力。

商場如戰(zhàn)場，快幫云提醒我們的企業(yè)經(jīng)營者，提前做好知識產(chǎn)權(quán)專利的有效保護布局，則會大大提升企業(yè)的競爭力。同時，專利申請固然重要，卻也不能盲目申請，既要有效，又要避坑。

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