各有特點，根據(jù)需求選擇 　　美國：美國專利商標局（USPTO）負責受理、審查、批準專利和商標申請事宜。美國于1790年頒布和實施了第一部專利法?，F(xiàn)行專利法于1952年頒發(fā)，此后又經(jīng)過多次修改、補充和完善，形成了一套包括發(fā)明專利、外觀專利和植物專利三種專利的詳細立法。美國專利法比較重要的修改為：1984年11月，美國國會對《專利法》做了一次較大的修訂，規(guī)定了對藥品和有關產品的專利保護期可適當延長。1994年底，美國國會通過了《烏拉圭回合協(xié)議法》，將原有的自授權之日起17年的保護期改為自申請日起20年(適用于1995年6月8日以后提出的申請)。2000年3月生效的《美國發(fā)明人保護法》(AIPA)，其中許多重要的條款都被直接列入專利法，包括將不公開審查制改為早期公開延遲審查制，保證發(fā)明人專利保護期等規(guī)定。該法案的簽署成為美國專利制度和美國專利商標局歷史上的重要里程碑。美國專利保護類型有發(fā)明專利、植物專利、外觀專利三種。 　　美國專利制度具有一些獨有的特征。如：先發(fā)明制：美國實行的是"先發(fā)明制"，而非世界上多數(shù)國家施行的先申請制。"先發(fā)明制"是指專利申請必須由發(fā)明人提出,發(fā)明人提出專利申請的同時或之后可以將申請權轉讓。因此美國專利文件中常出現(xiàn)的權利人是發(fā)明人和受讓人。臨時申請：美國專利制度允許發(fā)明人提交"臨時申請"。臨時專利申請是美國在烏拉圭回合談判后，根據(jù)談判協(xié)議修改了本國專利法，于1995年6月8日出臺的一種專利申請形式，為在USPTO提交的申請建立了一種"國內優(yōu)先權"制度，為試圖完善發(fā)明或籌集資金的申請人以低廉的費用、簡單的形式申請專利贏得了寶貴的時間。長期以來，USPTO實行的是不公開審查制度（形式審查合格后專利局直接進行實質審查），但是，隨著專利申請量的大幅度增加和審查資源的匱乏，造成專利申請的審理期限過長，有的長達十幾年，甚至更長(所謂美國式"潛水艇專利")，這種狀況顯然難以充分體現(xiàn)現(xiàn)代專利制度的立法宗旨，即以公開技術換取法律保護。而目前大多數(shù)國家均采用早期公開延遲審查制度，使專利信息盡早公布，促進了技術應用與創(chuàng)新，同時也避免了重復勞動。在大勢所趨下，2000年3月生效的《美國發(fā)明人保護法》(AIPA)規(guī)定，對在2000年11月29日或之后提出的發(fā)明和植物專利申請(不包括設計專利)施行早期公開制度，即自有效申請日起滿18個月即行公開。此外，AIPA還規(guī)定：如果申請人不愿意未經(jīng)審查公開，可以在申請時提出請求，并保證該申請只在美國及其它實行非18個月公開國家提出申請，對于此類申請則不予公開直至批準。在申請公開后至專利授權期間，對于他人的制造、使用、銷售或進口行為，申請人將享有要求獲得適當使用費的臨時權利。USPTO于2000年4月公布"關于執(zhí)行專利申請18個月公開"的通知，同年9月出臺正式規(guī)章，并自2001年3月15日開始正式按照AIPA的規(guī)定出版發(fā)明專利申請公開說明書。 　　日本：日本特許廳負責專利和商標申請的受理、審查和批準事宜。日本專利制度設立于1885（明治18年）年，經(jīng)過兩次大的修訂，目前的專利法是在1960（昭和35年）年4月1日實施的專利法的基礎上經(jīng)過無數(shù)次小的修訂而形成。日本專利保護類型有發(fā)明、實用新型、外觀設計三種。三種專利分別由對應的法律《特許法（專利法）》、《實用新案（實用新型）》、《意匠（外觀設計）法》予以規(guī)范。三種專利法還有各自輔助性的法律或者法規(guī)，如，對應《特許法》，有《特許法施行法》、《特許法施行令》（政令）、《特許法施行規(guī)則》（省令）。 　　日本專利制度特點：日本法律規(guī)定，如果滿足一定的條件且在一定的時間段內，發(fā)明、實用新型、外觀設計申請類別之間可以相互轉換。這種制度方便申請人在提出申請后改變保護類別，根據(jù)需要選擇保護手段。例如，如果某件發(fā)明專利申請在實審過程中由于創(chuàng)造性理由被駁回時，申請人可以在收到駁回通知之日起30日內提出將發(fā)明申請轉為實用新型的請求，以便將滿足不了創(chuàng)造性要求的發(fā)明申請轉為實用新型保護。實用新型申請可以在自申請日起3年內轉換為發(fā)明專利申請。如果變更申請在實用新型授權前提出，原實用新型申請被視為撤回；如果是在實用新型授權后提出，原實用新型被視為放棄。但變更為發(fā)明的專利申請能否被授權還要通過實質審查程序確定。日本外觀設計申請又包括以下幾種：成套物品的外觀設計、類似外觀設計、保密外觀設計和部分外觀設計。